Thiết bị quang phổ nhiễu xạ tia X (XRD)

Thiết bị quang phổ nhiễu xạ tia X (Multi-purpose X-Ray Diffraction) là một công cụ phân tích quan trọng trong lĩnh vực nghiên cứu vật lý và hóa học, được sử dụng để nghiên cứu cấu trúc tinh thể của các vật liệu. Chức năng chính của thiết bị này bao gồm:
– Phân tích cấu trúc tinh thể;
– Xác định hợp chất và pha tinh thể;
– Đánh giá cấu trúc bề mặt và cấu trúc tương quan;
– Nghiên cứu tính chất tinh thể và đặc tính vật lý;
– Ứng dụng trong nghiên cứu và công nghiệp.

  • Kiểu dáng: SmartLab XE
  • Hãng sản xuất: Rigaku
  • Xuất xứ: Nhật Bản

Mô tả

– Nguồn phát tia X
+ Công suất nguồn X-ray: 3kW tùy thuộc vào ống phát tia X
+ Dải dòng điện ống phát: 2-60mA (bước 1mA)
+ Dải điện áp ống phát: 20-60kV (bước 1kV)
+ Độ ổn định (điện áp, dòng điện): ±0.01% (Dao động chính trong khoảng ± 10 %)
+ Nguồn cấp: 3 pha, AC200V, 50/60Hz
+ Điều khiển thông qua phần mềm
+ 1 cáp cao thế
– Ống tia X hội tụ dài (gốm):
+ Bia Cu, ống gốm đã được làm kín theo tiêu chuẩn
+ Kích thước hội tụ: 0,4 x 12 mm
+ Công suất: 2200W
+ Làm mát bằng nước: Máy làm lạnh nước tuần hoàn bằng không khí
– Đầu dò:
+ Đầu dò 2D (có chế độ 0D, 1D, 2D); Đầu dò đếm Photon phát hiện trực tiếp
+ Kích thước Pixel: 100×100 μm; Số pixels: 385×96 = 36,960 (Tỷ lệ pixel bị lỗi dưới 0,1%)
+ Vùng hiệu dụng: 38,5×9,6 = 369,6mm2
+ 7,4 độ (2theta) với 300mm mẫu để phát hiện khoảng cách.
+ Tốc độ đếm tuyến tính: Hơn 1.000.000 cps / pixel (Tổng thể: 3,7 × 10^10 trở lên)

Chúng tôi sẵn lòng trả lời các câu hỏi liên quan tới sản phẩm, dự án mà quý khách hàng đang có nhu cầu!

Đánh giá

Chưa có đánh giá nào.

Hãy là người đầu tiên nhận xét “Thiết bị quang phổ nhiễu xạ tia X (XRD)”

Email của bạn sẽ không được hiển thị công khai. Các trường bắt buộc được đánh dấu *

Go to Top